2014年5月23-25日，由中国科学技术大学、南京航空航天大学共同主办和承办的第三届国际纳米制造趋势论坛在南京国际会议大酒店举行，牛津仪器作为会议赞助商参加了此次论坛。
本次论坛主要围绕纳米尺度制造、新型纳米制造装备原理及技术、纳米尺度器件与系统、纳米制造未来发展趋势、纳米制造工业应用与标准等几个方面进行。来自美国斯坦福大学、法国、日本、新加坡、以及中国科学院、中国科学技术大学等多个高校与研究所的100多研究人员参加了此次论坛。借此机会，牛津仪器以赞助商的形式，展出了等离子刻蚀与沉积、原子层沉积、离子束刻蚀与沉积、硅深刻蚀等多个产品的样本。牛津仪器的刻蚀、沉积和生长系统可以为材料的微米、纳米级工程提供工艺方法，可以应用于半导体、光电子、MEMS和微流体、高质量光学涂层及其他多种微纳技术领域。产品范围包括单机研发系统、批处理设备直到具备大规模生产能力的片盒到片盒设备。
牛津仪器将继续以支持中国纳米制造产业发展为己任，为中国广大企业和科研人员提供高性能、高可靠性的等离子体系统。